钱币天堂,国产光刻机的期望--上海微电子,百度一下你就知道

我们都知道我国芯片与国外距离非常大,这其间既有芯片规划方面的距离,也有芯片制作方面的距离。特别是芯片制作范畴,国外现已量产了7nm了,而我国的14nm还在研讨中。至少相差2代以上。

而这其间最要害的设备便是芯片光刻机。我国的光刻机现在只到达90nm,与国外的水平相差太远。Asml的光刻机现已完成了7nm的工艺,而且价格高达1亿美元。仍是全球排队购买。

之前这种高科技设备对我国都是制止出口的。现在只要中芯世界于2018年购得一台光刻机,估计2019年交货。

光刻机分为前道光刻机,比方 ASML这种,还有后道光刻机,比方上海微电子。

前道光刻机首要用于芯片光刻,面临的客户是中芯世界,台积电这种。然后道光刻机首要用于芯片封装,面临的客户是长电科技这种。

进入21世纪,我国早就布局前道光刻机的研制,上海微电子也在2008年就研制成功了90nm前道光刻机体系 。

可是中心元器材都是采购自国外。所以国外厂商默契的对中心部件施行禁运。导致国产前道光刻机沦为铺排。底子无法商用。

上海微电子也因而不得不转向后道光刻机的研制。并在针对国内市场,推出了一系列设备。

  • 光刻机

其间IC范畴的有SSX600系列步进扫描投影光刻机,选用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技能,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技能,可满意IC前道制作90nm、110nm、280nm要害层和非要害层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规划工业出产。其参数如下。

  • 晶圆缺点主动检测设备

SOI500晶圆缺点主动检测设备专用于IC先进封装工艺中的晶圆图形缺点检测,兼容6英寸、8英寸和12英寸晶圆。该设备可满意IC先进封装中的OQC出货查看、显影后查看、刻蚀后或电镀后查看等多种不同工艺检测需求。

SOI600可用于前道IC制作产线的ADI/AEI查看,它除了能够对硅片的正面进行微观缺点查看和摄影,还能够对硅片正面、边际和反面的微观缺点进行查看和摄影。

  • 半导体产线转移机器人

APR500片盒转移机器人,可主动转移两个12寸FOUP(兼容8寸片盒),完成端到端全主动转移。ATR500物料运送机器人,可兼容多种半导体工厂物料,在工厂不同区域进行运送。机器人配备了多重安全保证功用,特别适用于人机协作环境;多项立异技能有用进步机器人运用功率;可根据客制化需求,为用户供给工厂转移全体解决方案。

  • 平板显现设备

TFT曝光设备SSB200系列光刻机:TFT曝光设备SSB200系列光刻机,SSB200系列投影光刻机选用先进的投影光刻机渠道技 术,专用于AM-OLED和LCD显现屏TFT电路制作,可应用于2.5代~6代的TFT显现屏量产线。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度等特性,支撑6英寸掩模,明显下降用户运用本钱。

AM-OLED封装设备SLS200系列激光封装设备: SLS200系列激光封装设备面向AM-OLED封装工艺需求,能够更好地阻隔外部水汽和氧气的侵入,进步封装强度,然后延伸AM-OLED器材寿数。该系列产品选用立异光学体系,可进行恣意形状屏幕封装。

LCD Cell段高端屏制作设备:SPA200系列光配向设备,首要用于LCD Cell段高端屏的制作,代替传统的冲突配向设备。光配向工艺具有非触摸、不发生颗粒静电、配向均匀、配向精度高、可进步LCD显现屏对比度和良率等长处。

长短寸丈量设备: 长寸丈量兼容短寸和光刻胶膜厚丈量, 多功用丈量,长寸丈量一起兼容CD/Overlay丈量及光刻胶膜厚丈量,具有丈量精度高的特色,CD丈量重复性30nm,TP丈量重复性280nm,满意高分辨率光刻的丈量需求

  • LED/MEMS/功率器材

LED、MEMS、Power Devices制作:SSB300系列步进投影光刻机面向6英寸以下中小基底先进光刻应用范畴,满意HB-LED、MEMS和Power Devices等范畴单面或双面光刻工艺需求。

  • 激光退火设备 : IGBT反面退火,SLD500激光退火设备专为IGBT反面退火量产工艺开发。具有准确热效应操控、 高产能的特色。

现在上海微电子出产的设备现已在国内相关工业占有了80%的市场份额,而且国家面临国外的封闭也组装了相关的研讨部分进行了联合攻关。而且取得了不错的成果。

工作台:清华大学研制的“光刻机双工件台体系样机”也在2016年通过检验,使我国成为少量能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技能范畴尖端体系的国家之一。现在精度到达28纳米,比ASML尖端的还要差一点。

光源:科学院光电研讨所研制的45nm激光光源现现已过了小批量出产。

曝光体系: 2017年6月21日,“极大规划集成电路制作配备及成套工艺”国家科技严重专项(02专项)在长春光机所顺畅检验。专家共同以为该项意图顺畅施行将我国极紫外光刻技能研制向前推进了重要一步。

总结:跟着国家02专项的研制顺畅,为我国培养了一批相关范畴的研制人才,而上海光机所具有丰厚的光刻机出产经历,有了我国相关的中心设备支撑,再通过几年的开展。我国在光刻机范畴必将迎来迸发。

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